采購(gòu)內(nèi)容: (略) 理及制備儀器 采購(gòu)數(shù)量:1.0000項(xiàng) 主要功能或目標(biāo):超高速晶體分析系統(tǒng)主要用于觀察和檢測(cè)金屬和非金屬，導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品的表面形貌特征，利用能譜儀可對(duì)樣品進(jìn)行元素的定性、定量分析，利用背散射電子衍射儀可以對(duì)樣品進(jìn)行晶體取向進(jìn)行分析；具有結(jié)構(gòu)形貌、化學(xué)組分、晶體取向綜合分析能力。制樣設(shè)備主要用于電鏡觀測(cè)前 (略) 理，提高電鏡觀測(cè)效果。 需滿足的要求:1、超高速晶體分析系統(tǒng)部分： （1）場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 （2）能譜儀 （3）電子背散射衍射儀 （4）消磁器 2、氬離子拋光儀：拋光速率≥500μm/Hr(*@*0keV) 3、等離子清洗儀：采用ICP誘導(dǎo)方式產(chǎn)生等離子體，等離子體能量：＜21eV 4、超高分辨率鍍金鍍碳一體機(jī)：鍍膜功能包含鍍金鍍碳一體，濺射電流連續(xù)可調(diào)

無(wú)